TFT彩色顯示屏工作技術(shù)有哪些？以下LCD段碼屏生產(chǎn)廠家作簡單介紹：

TFT-LCD的制造工藝有以下幾部分：在TFT基板上形成TFT陣列；在彩色濾光片基板上形成彩色濾光圖案及ITO導(dǎo)電層；用兩塊基板形成液晶盒；安裝外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝。

1.在TFT基板上形成TFT陣列的工藝

現(xiàn)已實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的TFT類型包括：非晶硅TFT（a-Si TFT）、多晶硅TFT（p-Si TFT）、單晶硅TFT(c-Si TFT)幾種。目前使用最多的仍是a-Si TFT。

a-Si TFT的制造工藝是先在硼硅玻璃基板上濺射柵極材料膜，經(jīng)掩膜曝光、顯影、干法蝕刻后形成柵極布線圖案。一般掩膜曝光用步進(jìn)曝光機。第二步是用PECVD法進(jìn)行連續(xù)成膜，形成SiN_x膜、非摻雜a-Si膜，摻磷n⁺a-Si膜。然后再進(jìn)行掩膜曝光及干法蝕刻形成TFT部分的a-Si圖案。第三步是用濺射成膜法形成透明電極（ITO膜），再經(jīng)掩膜曝光及濕法蝕刻形成顯示電極圖案。第四步柵極端部絕緣膜的接觸孔圖案形成則是使用掩膜曝光及干法蝕刻法。第五步是將AL等進(jìn)行濺射成膜，用掩膜曝光、蝕刻形成TFT的源極、漏極以及信號線圖案。最后用PECVD法形成保護絕緣膜，再用掩膜曝光及干法蝕刻進(jìn)行絕緣膜的蝕刻成形，(該保護膜用于對柵極以及信號線電極端部和顯示電極的保護)。至此，整個工藝流程完成。

TFT陣列工藝是TFT-LCD制造工藝的關(guān)鍵,也是設(shè)備投資最多的部分。整個工藝要求在很高的凈化條件（例如10級）下進(jìn)行。

2.在彩色濾光片（CF）基板上形成彩色濾光圖案的工藝

    彩色濾光片著色部分的形成方法有染料法、顏料分散法、印刷法、電解沉積法、噴墨法。目前以顏料分散法為主。

顏料分散法的第一步是將顆粒均勻的微細(xì)顏料（平均粒徑小于0.1μm）(R、G、B三色)分散在透明感光樹脂中。然后將它們依次用涂敷、曝光、顯影工藝方法，依次形成R. G. B三色圖案。在制造中使用光蝕刻技術(shù)，所用裝置主要是涂敷、曝光、顯影裝置。

為了防止漏光，在RGB三色交界處一般都要加黑矩陣（BM）。以往多用濺射法形成單層金屬鉻膜，現(xiàn)在也有改用金屬鉻和氧化鉻復(fù)合型的BM膜或樹脂混合碳的樹脂型BM。

此外，還需要在BM上制做一層保護膜及形成IT0電極,由于帶有彩色濾光片的基板是作為液晶屏的前基板與帶有TFT的后基板一起構(gòu)成液晶盒。所以必須關(guān)注好定位問題，使彩色濾光片的各單元與TFT基板各像素相對應(yīng)。

3.液晶盒的制備工藝

首先是在上下基板表面分別涂敷聚酰亞胺膜并通過摩擦工藝，形成可誘導(dǎo)分子按要求排列的取向膜。之后在TFT陣列基板周邊布好密封膠材料，并在基板上噴灑襯墊。同時在CF基板的透明電極末端涂布銀漿。然后將兩塊基板對位粘接，使CF圖案與TFT像素圖案一一對正，再經(jīng)熱處理使密封材料固化。在印刷密封材料時，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。

近年來,隨著技術(shù)進(jìn)步和基板尺寸的不斷加大,在盒的制做工藝上也有很大的改進(jìn),比較有代表性的是灌晶方式的改變,從原來的成盒后灌注改為ODF法,即灌晶與成盒同步進(jìn)行。另外.墊襯方式也不再采用傳統(tǒng)的噴灑法,而是直接在陣列上用光刻法制作。

4.外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝工藝

    在液晶盒制作工藝完成后，在面板上需要安裝外圍驅(qū)動電路，再在兩塊基板表面貼上偏振片。如果是透射型LCD.還要安裝背光源。